特許

J-GLOBAL ID：202003016380877934

水処理装置、水処理システム及び水処理方法

発明者： 大森 聖史 ,  長野 晃弘 ,  荒木 信夫
出願人/特許権者： 三機工業株式会社 ,  独立行政法人国立高等専門学校機構
代理人 (4件)： 古谷 史旺 ,  狩野 彰 ,  大橋 剛之 ,  河田 良夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-081132
公開番号（公開出願番号）：特開2020-175350
出願日： 2019年04月22日
公開日（公表日）： 2020年10月29日
要約：

【課題】水を浄化する微生物の活性が高まる温度よりも低い温度に水温を保つ必要がある場合にも、効率的に水を浄化することができる水処理装置、水処理システム及び水処理方法を提供する。【解決手段】水中に棲息する硝化菌を用いて水槽内の水を浄化する水処理装置であって、複数の孔部により硝化菌を水中で留まらせる多孔体を水中内に保持する処理室と、水槽内の水温よりも高い温度で多孔体を内側から加温する加温体と、水槽内の水を処理室へ導く給水部と、処理室の水を水槽へ排出する排水部とを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水中に棲息する硝化菌を用いて水槽内の水を浄化する水処理装置であって、 複数の孔部により前記硝化菌を水中で留まらせる多孔体を水中内に保持する処理室と、 前記水槽内の水温よりも高い温度で前記多孔体を内側から加温する加温体と、 前記水槽内の水を前記処理室へ導く給水部と、 前記処理室の水を前記水槽へ排出する排水部と を有することを特徴とする水処理装置。

IPC (1件)：

C02F 3/34

FI (4件)：

C02F3/34 101D ,  C02F3/34 101C ,  C02F3/34 101B ,  C02F3/34 101A

Fターム (5件)：

4D040BB02 ,  4D040BB42 ,  4D040BB52 ,  4D040BB82 ,  4D040BB91

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 循環式硝化脱窒システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2016-150242   出願人：学校法人龍谷大学, 大日本プラスチックス株式会社
• 汚水の処理施設
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-238452   出願人：東急建設株式会社
• 特開平4-326991
  
• 排水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-299965   出願人：三洋電機株式会社