特許

J-GLOBAL ID：202003017218492030

プラズマ窒化方法

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発明者： 水流 一平 ,  大久保 大地 ,  松尾 英明 ,  後藤 峰男 ,  市村 進 ,  高島 成剛
出願人/特許権者： 中日本炉工業株式会社 ,  公益財団法人名古屋産業振興公社
代理人 (1件)： 加藤 光宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-025309
公開番号（公開出願番号）：特開2020-132922
出願日： 2019年02月15日
公開日（公表日）： 2020年08月31日
要約：

【課題】 プラズマ窒化処理において、硬度の向上と表面粗さの低下抑制を両立することを目的とする。【解決手段】 容器11内の正極12とスクリーン13との間に電圧を印加して供給口14から供給されるプロセスガスのプラズマを形成し、被処理材Wをプラズマ窒化する。窒化の際には、バイアス電流を被処理材の表面の硬度が複数段階に向上させる通電の条件のうち、硬度の第一段階の向上が達成でき、かつ、第二段階の向上に至らない範囲の通電の条件で通電させる。具体的には、被処理材の表面の0.5kgf荷重におけるビッカース硬度HV(0.5)が1250よりも小さい範囲となるように制御する。こうすることにより、被処理材の表面への堆積物の生成を抑制でき、被処理材の硬度の向上と表面粗さの低下抑制を両立することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

プラズマを利用して金属の被処理材の表面に窒化層を形成するプラズマ窒化方法であって、 (a) 密閉された処理容器内に前記被処理材を載置する工程と、 (b) 前記処理容器内に窒素またはアンモニアを含有するプロセスガスを供給しながら、正極および負極間に通電させて前記プロセスガスのプラズマを発生させ、該プラズマによって前記被処理材の窒化プロセスを行う工程とを備え、 前記工程(b)における前記通電は、 前記被処理材の表面の硬度が複数段階に向上させる通電の条件のうち、硬度の第一段階の向上が達成でき、かつ、第二段階の向上に至らない範囲の通電の条件で行われるプラズマ窒化方法。

IPC (2件)：

C23C 8/36 ,  H05H 1/46

FI (2件)：

C23C8/36 ,  H05H1/46 M

Fターム (17件)：

2G084AA07 ,  2G084BB11 ,  2G084CC03 ,  2G084CC08 ,  2G084CC12 ,  2G084CC33 ,  2G084DD17 ,  2G084DD21 ,  2G084DD38 ,  2G084HH33 ,  2G084HH34 ,  2G084HH42 ,  4K028BA02 ,  4K028BA11 ,  4K028BA12 ,  4K028BA21 ,  4K028BA22

引用文献：

審査官引用 (2件)

• 「アクティブスクリーンプラズマ窒化装置と処理特性」
• "Influence of pulsed power supply parameters on active screen plasma nitriding"