特許
J-GLOBAL ID：202003020605268794

成膜装置及び成膜方法

発明者：
桑田 拓岳

桑田 拓岳 について

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布重 裕

布重 裕 について

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藤井 康

藤井 康 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人弥生特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-163155
公開番号（公開出願番号）：特開2020-033625
出願日： 2018年08月31日
公開日（公表日）： 2020年03月05日
要約：
【課題】複数の基板に成膜処理を行うにあたり、基板間における膜厚の変動を抑制すること。【解決手段】本開示の成膜装置は、真空容器内にて基板を載置すると共に加熱する載置部と、前記載置部に対向する対向部と、当該対向部に開口した複数のガス吐出口と、を備え、前記複数のガス吐出口から前記基板に成膜ガスを供給して前記基板に成膜するシャワーヘッドと、前記複数の基板へ成膜ガスを各々供給する合間で、当該基板が前記真空容器に格納されていないときに、当該真空容器内をクリーニングするクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給部と、前記各基板に前記成膜ガスを供給するときの前記シャワーヘッドにおける熱の反射率の変動を緩和するために、少なくとも前記対向部にて前記シャワーヘッドを構成する基材を被覆して当該シャワーヘッドの表面を形成する無孔質の被覆膜と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
内部に真空雰囲気を形成する真空容器と、 前記真空容器内にて基板を載置すると共に加熱する載置部と、 前記載置部に対向する対向部と、当該対向部に開口した複数のガス吐出口と、を備え、前記複数のガス吐出口から加熱された前記基板に成膜ガスを供給して当該基板に成膜するシャワーヘッドと、 複数の前記基板へ前記成膜ガスを各々供給する合間で、当該基板が前記真空容器に格納されていないときに、当該真空容器内をクリーニングするクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給部と、 前記各基板に前記成膜ガスを供給するときの前記シャワーヘッドにおける熱の反射率の変動を緩和するために、少なくとも前記対向部にて前記シャワーヘッドを構成する基材を被覆して当該シャワーヘッドの表面を形成する無孔質の被覆膜と、 を備える成膜装置。
IPC (1件)：
C23C 16/46
FI (1件)：
C23C16/46
Fターム (14件)：
4K030AA03 ,  4K030AA13 ,  4K030BA18 ,  4K030BA38 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030EA04 ,  4K030FA10 ,  4K030GA02 ,  4K030JA10 ,  4K030KA23 ,  4K030KA41 ,  4K030KA47
引用特許：
審査官引用 (5件)
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引用文献：
審査官引用 (4件)
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