特許
J-GLOBAL ID:202103001434884478

多結晶シリコンを調製するための方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人川口國際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-531720
特許番号:特許第6977041号
出願日: 2016年12月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 加熱装置によって加熱される流動床中での流動化ガスによるシリコンシード粒子の流動化を含む流動床反応器中で多結晶シリコン粒状物を製造するための方法であって、熱分解による水素及びシラン及び/又はハロシランを含有する反応ガスの添加によって、元素状シリコンが前記シリコンシード粒子上に析出して多結晶シリコン粒状物を形成し、オフガスの処理のための再循環ガス系において、オフガスが前記流動床反応器から連続的に放出され、このオフガスから回収される水素が再循環ガスとして前記流動床反応器に送り返され、前記再循環ガス系の窒素含有量が1000ppmv未満であり、0.01〜1000ppmvの窒素閾値を超過したときに、流動床及び/又は反応器壁の温度を上昇させることを特徴とする、方法。
IPC (1件):
C01B 33/03 ( 200 6.01)
FI (1件):
C01B 33/03
引用特許:
審査官引用 (4件)
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