特許
J-GLOBAL ID：202103001501904101
パターン検査方法及びパターン検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-217151
公開番号（公開出願番号）：特開2018-077053
特許番号：特許第6851178号
出願日： 2016年11月07日
公開日（公表日）： 2018年05月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 パターンが形成されたマスク基板の光学画像を取得する工程と、
前記光学画像に対応する参照画像を作成する工程と、
画像階調値プロファイルの第1の閾値レベルを用いて特定される前記光学画像内のパターン正常個所のパターン寸法と前記参照画像内の対応個所のパターン寸法とが同じ寸法になる前記参照画像に用いる第2の閾値レベルを測定する工程と、
前記第2の閾値レベルを用いて、前記光学画像内のパターン異常個所に対応する、前記参照画像内の対応個所のパターン寸法を測定する工程と、
前記第1の閾値レベルを用いて、前記光学画像内のパターン異常個所の仮のパターン寸法を測定し、前記第2の閾値レベルを用いた前記参照画像内の対応個所のパターン寸法を前記第1の閾値レベルを用いた前記光学画像内のパターン異常個所の仮のパターン寸法で割った値に設定寸法を乗じた値を前記光学画像内のパターン異常個所のパターン寸法として算出する工程と、
前記パターン異常個所について、前記参照画像から測定されたパターン寸法と前記光学画像から測定されたパターン寸法とを比較し、出力する工程と、
を備えたことを特徴とするパターン検査方法。
IPC (3件)：
G01B 11/02 ( 200 6.01)
, G01N 21/956 ( 200 6.01)
, G03F 1/84 ( 201 2.01)
G01B 11/02 H
, G01N 21/956 A
, G03F 1/84
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
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