特許
J-GLOBAL ID：202103005287211760
液体処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
新居 広守
, 寺谷 英作
, 道坂 伸一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-251793
公開番号（公開出願番号）：特開2017-144425
特許番号：特許第6832571号
出願日： 2016年12月26日
公開日（公表日）： 2017年08月24日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被処理液内に気体を放出するための第1の開口と第1の内側面とを有する筒状の第1の絶縁体と、
前記第1の内側面によって囲まれる第1の空間内に少なくとも一部が配置された第1の電極と、
前記被処理液内に少なくとも一部が配置された第2の電極と、
前記第1の空間内に前記気体を供給することで、前記第1の開口を介して前記気体を前記被処理液中に放出する気体供給装置と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加することで、プラズマを発生させる電源とを備え、
前記第1の内側面は、前記第1の開口から所定距離のリング状の第1の部分領域を含み、
前記第1の電極の先端は、前記第1の開口から前記第1の空間外に突出、または前記第1の開口から前記第1の空間内に3mm未満後退しており、
前記第1の電極の側面と前記第1の部分領域との間の最短距離である第1の距離は、1mm以上である、
液体処理装置。
IPC (3件)：
C02F 1/48 ( 200 6.01)
, B01J 19/08 ( 200 6.01)
, H05H 1/24 ( 200 6.01)
C02F 1/48 B
, B01J 19/08 E
, H05H 1/24
