特許
J-GLOBAL ID：202103011173021910
粒子線照射システム、粒子線制御情報生成装置、および粒子線照射装置の制御方法、プログラム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人磯野国際特許商標事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-236200
公開番号（公開出願番号）：特開2018-089172
特許番号：特許第6958887号
出願日： 2016年12月05日
公開日（公表日）： 2018年06月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 粒子線ビームを照射標的に照射するための粒子線照射システムであって、
照射標的に付与すべき線量を満たすように仮想の粒子線ビームを照射する計画を作成する照射計画装置と、
前記仮想の粒子線ビームを、当該仮想の粒子線ビームの線量になるように前記仮想の粒子線ビームよりもビーム進行方向のビーム幅が薄い複数の粒子線ビームにスライス変調させ、前記複数の粒子線ビームの情報を出力する照射計画変換装置と、
前記複数の粒子線ビームのビームサイズの情報を基に、前記複数の粒子線ビームの照射を行うように出力信号を出力する照射系制御装置と、
前記出力信号により、前記照射標的に前記複数の粒子線ビームを照射する照射機器とを具備し、
前記照射計画変換装置は、
一のスライスの前記粒子線ビームのエネルギと、他のスライスの前記粒子線ビームのエネルギとが重なる場合、一つのスライスの粒子線ビームの照射に変更することを特徴とする粒子線照射システム。
IPC (1件)：
FI (2件)：
A61N 5/10 H
, A61N 5/10 P
