特許
J-GLOBAL ID：202103011507641949
膜形成方法及び膜形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
来山 幹雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-157066
公開番号（公開出願番号）：特開2018-026443
特許番号：特許第6862041号
出願日： 2016年08月10日
公開日（公表日）： 2018年02月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 インクジェットヘッドに対して基板を相対的に移動させながら、形成すべき膜のパターンを定義するパターンデータに基づいて、前記インクジェットヘッドから前記基板に向けて液滴を吐出させて前記基板に膜を形成する膜形成方法であって、
前記インクジェットヘッドと前記基板との相対的な移動方向は、前記パターンデータで定義された液滴を塗布するパターンの間隔の最小寸法の方向に対して直交する膜形成方法。
IPC (7件)：
B05D 1/26 ( 200 6.01)
, B05D 3/00 ( 200 6.01)
, B05C 5/00 ( 200 6.01)
, B05C 11/10 ( 200 6.01)
, B41J 2/01 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G06F 3/041 ( 200 6.01)
B05D 1/26 Z
, B05D 3/00 D
, B05C 5/00 101
, B05C 11/10
, B41J 2/01 129
, H01L 21/30 564 Z
, G06F 3/041 660
