特許
J-GLOBAL ID：202103013502996806

基板処理装置

発明者：
長嶋 裕次

長嶋 裕次 について

, 
林 航之介

林 航之介 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (5件)： 木内 光春 ,  大熊 考一 ,  片桐 貞典 ,  木内 加奈子 ,  特許業務法人三澤特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-194722
公開番号（公開出願番号）：特開2018-056529
特許番号：特許第6849368号
出願日： 2016年09月30日
公開日（公表日）： 2018年04月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 空気が上方から下方に流れる処理室と、 前記処理室内に設けられ、被処理面を有する基板を支持する支持部と、 前記支持部の上方を避けて設けられ、加熱用の光を出射する加熱部と、 前記加熱部に対し、前記支持部を挟んで反対側に、かつ前記支持部の上方を避けて設けられ、前記加熱部により出射されて前記支持部の上方を通過した前記光を、前記支持部により支持された前記基板の被処理面に導く光学部材と、 を備え、 前記処理室は複数設けられ、隣接する二つの処理室には、前記加熱部から出射された前記光を通過させる透過部がそれぞれ設けられ、一方の前記処理室に設けられる前記透過部と、他方の前記処理室に設けられる前記透過部との間に、前記二つの処理室で共用される前記加熱部が配置されていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  F26B 3/30 ( 200 6.01) ,  F26B 15/00 ( 200 6.01)
FI (4件)：
H01L 21/304 651 M ,  H01L 21/304 651 B ,  F26B 3/30 ,  F26B 15/00 A
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM