基板処理装置、および基板処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：伊東忠重 , 伊東忠彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-226355
公開番号（公開出願番号）：特開2018-085393
特許番号：特許第6804270号
出願日： 2016年11月21日
公開日（公表日）： 2018年05月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数の基板を収容する処理容器と、前記処理容器内にガスを供給するガス供給部と、前記処理容器内のガスを排気する排気部とを有する基板処理装置であって、前記ガス供給部に接続され、前記ガス供給部内を掃気する掃気部と、制御部とを備え、前記制御部は、前記ガスを供給するプロセスが最初の処理ステップである場合に、前記掃気部を開いて、前記ガス供給部内の圧力を陰圧にし、陰圧の前記ガス供給部内に前記ガスを流し、前記掃気部を閉じて、前記処理容器内に前記ガスを供給するように制御する、基板処理装置。

IPC (3件)：