ハイドロゲル表面への光応答基の導入と吸着特性の光制御

実施期間：2008 - 2008
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 大学院工学研究科, 助教 )
研究概要：

ハイドロゲルは、物質透過性や保持性などのバルク特性を持つため、良質な細胞培養基材として有望視されている生体材料である。本研究課題では、真空紫外光酸化を基盤とした優れたハイドロゲルの表面処理技術を確立するとともに、ハイドロゲルの表面のみに光応答基を修飾する新たな材料プロセッシングを提案し、ハイドロゲル本来の持つバルク特性を損なうことなく、表面濡れ性や物質の吸着特性を光制御する光機能化ハイドロゲルの構築を目指す。

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研究制度：＞＞＞＞
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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