研課題
J-GLOBAL ID:202104005702667441  研究課題コード:08000881

ノーマリオフ型 GaN MOSFET の開発

実施期間:2007 - 2007
実施機関 (1件):
研究代表者: ( , 工学研究科, 教授 )
研究概要:
GaN HEMT は高周波、高耐圧、高出力で動作するトランジスタとして期待が高い。ノーマリオン型HEMT では(2)で述べる申請者等の研究成果を含めて研究が進展し、実用化は近く、今後は大電力システムの安全設計に必須でかつ回路構成が簡単なノーマリオフ型の開発が重要な課題である。しかし従来のHEMT ではゲート順バイアス電圧は2V 程度が上限であり、寄生抵抗の増大、オン電流の低下という課題はノーマリオフ型ではより顕著となり開発の大きな障害となっている。本申請ではこの課題を解決する方法として新たに提案したゲートオーバーラップ構造MOSFET により、寄生抵抗の低減・オン電流の飛躍的増大とゲート順バイアス電圧増大とが同時に実現可能なノーマリオフ型高電流GaN HEMTMOSFET を開発する。
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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研究制度:
研究所管機関:
国立研究開発法人科学技術振興機構

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