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研課題

J-GLOBAL ID：202104007824533970 研究課題コード：11102795

III族窒化物半導体電子デバイスの高耐圧化に関する研究

実施期間：2011 - 2012
実施機関 (1件)：
研究代表者： ( , 大学院工学研究科, 教授 )

, , , ,

研究制度：＞＞＞
上位研究課題：探索ステージ
研究所管機関：

国立研究開発法人科学技術振興機構

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