特許
J-GLOBAL ID：202203002328690633

合成ガスの製造装置および合成ガスの製造方法

発明者：
馬場 祐一郎

馬場 祐一郎 について

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福嶋 將行

福嶋 將行 について

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上野 孝弘

上野 孝弘 について

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森 智比古

森 智比古 について

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西井 麻衣

西井 麻衣 について

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増田 隆夫

増田 隆夫 について

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中坂 佑太

中坂 佑太 について

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吉川 琢也

吉川 琢也 について


出願人/特許権者：
古河電気工業株式会社

古河電気工業株式会社 について

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国立大学法人北海道大学

国立大学法人北海道大学 について


代理人 (2件)： 齋藤 拓也 ,  来間 清志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-147387
公開番号（公開出願番号）：特開2022-042136
出願日： 2020年09月02日
公開日（公表日）： 2022年03月14日
要約：
【課題】非貴金属の触媒物質を備える触媒構造体でドライリフォーミングを行っても、触媒活性の低下を長期間抑制でき、COとH 2 を含む合成ガスを安定して製造できる合成ガスの製造装置及び製造方法の提供。 【解決手段】CO及びH 2 を含む合成ガスを製造し、CH 4 及びCO 2 を含む原料ガスを供給する原料ガス供給部と、還元ガスを供給する還元ガス供給部と、前記原料ガス及び前記還元ガスが供給され、前記原料ガス及び前記還元ガスを触媒構造体に流通しながら前記触媒構造体を加熱し、前記原料ガスから合成ガスを生成する合成ガス生成部と、を備え、前記触媒構造体は、ゼオライト型化合物で構成される多孔質構造の担体と、前記担体に内在する触媒物質と、を備え、前記担体は互いに連通する通路を内部に有し、前記触媒物質は、非貴金属の金属微粒子であり、前記担体の少なくとも前記通路に存在している合成ガスの製造装置。 【選択図】図1
請求項（抜粋）：
一酸化炭素および水素を含む合成ガスを製造する合成ガスの製造装置であって、 メタンおよび二酸化炭素を含む原料ガスを供給する原料ガス供給部と、 還元ガスを供給する還元ガス供給部と、 前記原料ガス供給部から前記原料ガスが供給されると共に前記還元ガス供給部から前記還元ガスが供給され、前記原料ガスおよび前記還元ガスを触媒構造体に流通しながら前記触媒構造体を加熱し、前記原料ガスに含まれるメタンおよび二酸化炭素から一酸化炭素および水素を含む合成ガスを生成する合成ガス生成部と、 を備え、 前記触媒構造体は、ゼオライト型化合物で構成される多孔質構造の担体と、前記担体に内在する少なくとも1つの触媒物質と、を備え、 前記担体が、互いに連通する通路を内部に有し、 前記触媒物質が、非貴金属の金属微粒子であり、前記担体の少なくとも前記通路に存在していることを特徴とする合成ガスの製造装置。
IPC (2件)：
C01B 3/26 ,  B01J 29/035
FI (2件)：
C01B3/26 ,  B01J29/035 M
Fターム (23件)：
4G140DA03 ,  4G140DC02 ,  4G169AA03 ,  4G169AA09 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169CC04 ,  4G169CC07 ,  4G169DA06 ,  4G169EB10 ,  4G169FA02 ,  4G169FB44 ,  4G169ZA36A ,  4G169ZA36B ,  4G169ZB03 ,  4G169ZB09 ,  4G169ZD06
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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