薄膜コンデンサおよび薄膜コンデンサの製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 黒木義樹 , 三上敬史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-051070
公開番号（公開出願番号）：特開2019-165069
特許番号：特許第7027990号
出願日： 2018年03月19日
公開日（公表日）： 2019年09月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基材と、前記基材に対して積層され、積層方向に沿って設けられた複数の内部電極層および前記内部電極層に挟まれた誘電体層を有する容量部と、を有し、前記基材の表面において前記容量部が積層される領域での前記基材の厚さをT1とし、前記容量部が積層されていない領域での前記基材の厚さをT2としたときに、T1>T2であり、前記容量部の外周の側面、および、前記基材の表面のうち前記容量部が積層されていない領域の一部が連続して同一平面を形成している、薄膜コンデンサ。

IPC (2件)：