特許
J-GLOBAL ID:202203007957707222
外観検査装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
木内 光春
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-022060
公開番号(公開出願番号):特開2019-138762
特許番号:特許第7008528号
出願日: 2018年02月09日
公開日(公表日): 2019年08月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 被検体の外観から前記被検体の異常対象物を検出する外観検査装置であって、 所定波長帯域の光を前記被検体に上方から照射する第1の照明と、 前記所定波長帯域から離れた波長帯域の光を前記被検体に対してローアングルで照射する第2の照明と、 前記第1の照明と前記第2の照明の反射光を検出する撮像手段と、前記被検体を載置可能なステージと、前記ステージの載置面に沿うX軸、前記ステージの載置面に拡がる平面に沿い前記X軸と直交するY軸および前記ステージの載置面と直交するZ軸の各軸方向に前記ステージを移動させる移動機構と、前記X軸、前記Y軸および前記Z軸の各軸周りに前記ステージを回転させる回転機構と、を備え、前記回転機構と前記移動機構は、前記第2の照明が光を照射する前記被検体上の領域を変更すること、 を特徴とする外観検査装置。
IPC (1件):
FI (1件):
引用特許:
審査官引用 (6件)
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外観検査装置、および外観検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2012-255585
出願人:株式会社トプコン
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織物検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-331538
出願人:株式会社豊田中央研究所, 豊田紡織株式会社
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基板検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-155763
出願人:矢崎総業株式会社
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凹凸観測装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-169671
出願人:オムロン株式会社
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ウェハ表面欠陥検査装置およびその方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-146567
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-314067
出願人:オリンパス株式会社
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