特許
J-GLOBAL ID:202203013410212890
インプリント用テンプレート、その製造方法、およびインプリント方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
太田 昌孝
, 金森 靖宏
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-107402
公開番号(公開出願番号):特開2019-212745
特許番号:特許第7070106号
出願日: 2018年06月05日
公開日(公表日): 2019年12月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1面、当該第1面に対向する第2面、並びに当該第1面の外縁及び当該第2面の外縁の間に連続する側面を有し、前記第1面に凹凸パターンが形成されてなるパターン基板と、 少なくとも前記凹凸パターンを露出させ得る開口部、及び前記パターン基板の前記側面との間に第1間隙を設けるようにして前記側面を取り囲む側壁部を含む枠体と、前記パターン基板及び前記枠体を接合する接合部と、を備え、前記枠体は、前記パターン基板の前記第2面に対向する底部をさらに有し、前記枠体の前記底部には、前記パターン基板の前記側面及び前記枠体の前記側壁部の間の第1間隙に連続する貫通孔が設けられており、前記接合部は、前記第1間隙及び前記貫通孔に位置し、 前記パターン基板の前記第1面を上方に向けた側面視において、前記パターン基板の前記第1面と、前記枠体の上面と、前記第1間隙に位置する前記接合部の上面とが、実質的に面一であるインプリント用テンプレート。
IPC (3件):
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, B29C 33/38 ( 200 6.01)
, B29C 59/02 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 21/30 502 D
, B29C 33/38
, B29C 59/02 B
引用特許:
出願人引用 (4件)
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インプリントリソグラフィ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-336452
出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
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インプリントリソグラフィ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-303287
出願人:エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
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インプリント装置及びインプリント方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-008302
出願人:富士通株式会社
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インプリント装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-190852
出願人:株式会社東芝
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審査官引用 (4件)