特許
J-GLOBAL ID：201103080523074552
インプリント装置及びインプリント方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
真田 有
, 山本 雅久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-008302
公開番号（公開出願番号）：特開2011-143679
出願日： 2010年01月18日
公開日（公表日）： 2011年07月28日
要約：
【課題】スループットを高くしながら、良好な転写パターンが得られるようにし、さらに、樹脂基板等のうねりや反り等がある基板にパターンを転写する場合にも密着不良が起こりにくくし、基板に与えるストレスも小さい、インプリント装置及びインプリント方法を実現する。【解決手段】インプリント装置を、パターン3Aを有するモールド3のパターンを基板1上に転写するインプリント装置であって、基板を保持しうるステージ2と、ステージに対向する位置に設けられ、モールドを保持しうる複数の第1開口部4Aを有するモールドホルダ4と、モールドホルダを挟んでステージの反対側に設けられ、モールドに圧力を加えるモールド加圧機構5と、ステージ上の複数の第1開口部に対向する位置に設けられた複数の圧力センサ6とを備えるものとする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パターンを有するモールドの前記パターンを基板上に転写するインプリント装置であって、
前記基板を保持しうるステージと、
前記ステージに対向する位置に設けられ、前記モールドを保持しうる複数の第1開口部を有するモールドホルダと、
前記モールドホルダを挟んで前記ステージの反対側に設けられ、前記モールドに圧力を加えるモールド加圧機構と、
前記ステージ上の前記複数の第1開口部に対向する位置に設けられた複数の圧力センサとを備えることを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C59/02 Z
, H01L21/30 502D
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AP02
, 4F209AR02
, 4F209PA02
, 4F209PB02
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
, 5F146AA28
