特許

J-GLOBAL ID：202203016305826814

結晶膜、半導体装置および結晶膜の製造方法

発明者： 大島 祐一 ,  藤田 静雄 ,  金子 健太郎 ,  嘉数 誠 ,  河原 克明 ,  四戸 孝 ,  松田 時宜 ,  人羅 俊実
出願人/特許権者： 株式会社FLOSFIA ,  国立研究開発法人物質・材料研究機構 ,  国立大学法人京都大学 ,  国立大学法人佐賀大学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2022-137373
公開番号（公開出願番号）：特開2022-177039
出願日： 2022年08月30日
公開日（公表日）： 2022年11月30日
要約：

【課題】高品質な結晶膜が工業的有利に得られる結晶膜の製造方法を提供する。 【解決手段】金属を含む金属源をガス化して金属含有原料ガスとし、ついで、前記金属含有原料ガスと、酸素含有原料ガスとを反応室内の基板上に供給して成膜する結晶膜の製造方法であって、前記基板が、表面に凹部または凸部からなる凹凸部が形成されており、反応性ガスを前記基板上に供給し、前記成膜を、前記反応性ガスの流通下で行うことにより、高品質な結晶膜を成膜し、得られた結晶膜を、半導体装置等に用いる。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

結晶性金属酸化物を主成分として含み、コランダム構造を有する結晶膜であって、転位密度が5×10 6 cm -2 よりも低く、表面積が9μm 2 以上であることを特徴とする結晶膜。

IPC (4件)：

C30B 29/16 ,  C30B 25/18 ,  H01L 21/365 ,  H01L 21/368

FI (4件)：

C30B29/16 ,  C30B25/18 ,  H01L21/365 ,  H01L21/368 Z

引用特許：

出願人引用 (10件)

• 特許第5397794号
  
• 特許第5343224号
  
• 特許第5397795号
  
• 半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-212623   出願人：ROCA株式会社
• 結晶性積層構造体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-239389   出願人：株式会社FLOSFIA
• 結晶成長用基板、結晶性積層構造体およびそれらの製造方法ならびにエピタキシャル成長方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-239391   出願人：株式会社FLOSFIA
• 結晶性積層構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-239390   出願人：株式会社FLOSFIA
• α-Ga2O3単結晶、α-Ga2O3の製造方法、および、それを用いた半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-035140   出願人：国立研究開発法人物質・材料研究機構
• 国際公開第2014/050793号公報
  
• 結晶膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2018-154236   出願人：国立大学法人佐賀大学

引用文献：

出願人引用 (1件)

• デバイス応用に向けたα-Ga2O3二重ELO膜の平坦化