特許
J-GLOBAL ID：202203016894607329
プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-071278
公開番号（公開出願番号）：特開2020-202393
特許番号：特許第7030915号
出願日： 2016年03月31日
公開日（公表日）： 2020年12月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、 前記処理容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、 前記処理容器の内部に設けられ、基板を載置する載置部と、 内部にプラズマを発生させる領域を有し、前記処理容器から離隔された位置に設けられた放電管と、 マイクロ波を発生させるマイクロ波発生部と、 前記マイクロ波を伝播させて、前記プラズマを発生させる領域に前記マイクロ波を導入する導入導波管と、 前記プラズマを発生させる領域にガスを供給するガス供給部と、 ガス供給部を制御する制御部と、 を備え、 前記基板は、炭化シリコンを含み、ダメージが発生している表面領域を有し、 前記制御部は、前記プラズマを用いて前記ガスからラジカルを生成した際に発生した紫外線を前記表面領域に照射した後、前記プラズマの拡がりを小さくするように前記ガスの組成を変化させて前記表面領域に照射される前記紫外線を抑制するプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H01L 21/28 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/302 106
, H01L 21/28 A
, H01L 21/28 301 B
, H05H 1/46 B
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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