特許

J-GLOBAL ID：202503001863529596

スケール生成評価方法とスケール生成評価装置

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発明者： 倉光 英樹 ,  上田 晃 ,  細木 藍 ,  杉浦 暉冬
出願人/特許権者： 独立行政法人エネルギー・金属鉱物資源機構 ,  国立大学法人富山大学
代理人 (1件)： 廣澤 勲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2023-111604
公開番号（公開出願番号）：特開2025-008950
出願日： 2023年07月06日
公開日（公表日）： 2025年01月20日
要約：

【課題】より短時間でスケールを検知し、スケール生成状態を評価可能なスケール生成評価方法とスケール生成評価装置を提供する。 【解決手段】所定の帯域幅の波長の光を有した光源12と、光源12に一端が接続され光源12からの光が透過する光ファイバ14を有する。光ファイバ14の途中又は端部において部分的にクラッドが除去されたコア表面に貴金属薄膜層18が形成されて露出した表面プラズモン共鳴スケールセンサ16を備える。光ファイバ14の表面プラズモン共鳴スケールセンサ18を通過した光のスペクトルを検出するスペクトル分析装置20を備える。スペクトル分析装置20は、光源12から光ファイバ14に透過された光のスペクトルの経時的変化を検出し、スケール30の生成状態を評価可能にする。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

スケールの生成状態を評価するスケール生成評価方法であって、 所定の帯域幅の波長の光を有した光源と、前記光源に一端が接続され前記光源からの光が透過する光ファイバと、前記光ファイバの途中又は端部において部分的にクラッドが除去されたコア表面に貴金属薄膜層が形成されて露出した表面プラズモン共鳴スケールセンサとを用いて、 前記表面プラズモン共鳴スケールセンサをスケール検知対象エリア内に配置した状態で、前記光源からの光を前記光ファイバに透過させ、前記表面プラズモン共鳴スケールセンサを透過した前記光のスペクトルの経時的変化を検出することにより、スケールの生成状態を評価することを特徴とするスケール生成評価方法。

IPC (1件)：

G01N 21/41

FI (1件)：

G01N21/41 101

Fターム (11件)：

2G059AA05 ,  2G059EE02 ,  2G059EE12 ,  2G059FF04 ,  2G059FF07 ,  2G059GG02 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ17 ,  2G059KK01 ,  2G059MM01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• スケール付着の定量評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2017-148532   出願人：国立大学法人東北大学, 株式会社テクノラボ