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J-GLOBAL ID:200901089765976137   Update date: Sep. 30, 2024

Ohmi Hiromasa

オオミ ヒロマサ | Ohmi Hiromasa
Affiliation and department:
Homepage URL  (1): http://www-ms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/
Research field  (5): Basic plasma science ,  Electric/electronic material engineering ,  Manufacturing and production engineering ,  Optical engineering and photonics ,  Thin-film surfaces and interfaces
Research keywords  (10): 表面・界面物性 ,  薄膜工学 ,  電気材料工学 ,  電子 ,  量子光工学(レーザ) ,  応用光学 ,  Surface and Interface ,  electronics material ,  Quantum Optics(Laser) ,  Applied Optics
Research theme for competitive and other funds  (45):
  • 2024 - 2027 Development of a smart manufacturing process for ultrathin crystalline Si solar cell using hydrogen plasma
  • - 2024 異種材接合に向けた高密度・非平衡プラズマによる金属表面処理技術の開発
  • - 2023 省資源・省エネ型単結晶ダイヤモンド合成プロセスの開発
  • 2021 - 2022 Creation of infrared-antireflection Ge surface using high-density hydrogen plasma
  • 2016 - 2019 Development of chemical-free and sophisticated manufacturing process for semiconductor substrate through hydrogen cycle
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Papers (189):
  • Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi. High-rate etching of silicon oxide and nitride using narrow-gap high-pressure (3.3 kPa) hydrogen plasma. Journal of Physics D: Applied Physics. 2024. 57. 27. 275204-275204
  • Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi. Role of O2 and N2 addition on low-reflectance Si surface formation using moderate-pressure (3.3 kPa) hydrogen plasma. Physica Scripta. 2023. 98. 11. 115609-115609
  • Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi. Shallow defect layer formation as Cu gettering layer of ultra-thin Si chips using moderate-pressure (3.3 kPa) hydrogen plasma. Journal of Applied Physics. 2023. 133. 16
  • Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi, Seiya Takeda, Kiyoshi Yasutake. Improvement of deposition characteristics of silicon oxide layers using argon-based atmospheric-pressure very high-frequency plasma. Journal of Applied Physics. 2022. 132. 10. 103302-103302
  • Toshimitsu Nomura, Kenta Kimoto, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake, Hiromasa Ohmi. Si nanocone structure fabricated by a relatively high-pressure hydrogen plasma in the range of 3.3-27 kPa. Journal of Vacuum Science & Technology B. 2022. 40. 3. 032801-032801
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MISC (72):
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Patents (28):
  • ガス生成方法およびエッチング装置
  • プラズマ生成装置
  • フルオロカーボン膜の成膜方法及び成膜装置
  • エッチング装置及びエッチング方法
  • 金属膜形成装置及び金属膜形成方法
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Books (12):
  • 超精密加工と表面科学 第2部2章3
    大阪大学出版会 2014 ISBN:9784872594652
  • Monthly DISPLAY
    2013
  • 大気圧プラズマCVDによるSi高速成膜と太陽電池への応用 OPTRONICS, 2012, No. 6, 88-93. (共著)
    株式会社オプトロニクス社 2012
  • 大気圧プラズマCVDによるシリコン薄膜の形成 「改訂版 大気圧プラズマの生成制御と応用技術」 pp.197-219, 2012 (共著)
    サイエンス&テクノロジー株式会社 2012 ISBN:9784864280396
  • 大気圧プラズマの技術とプロセス開発
    シーエムシー出版 2011 ISBN:9784781304076
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Works (5):
  • グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点
    2008 -
  • Center of Excellence for Atomically Controlled Fabrication Technology
    2008 -
  • 大気圧水素プラズマのみによるSi薄膜の形成
    2004 -
  • ガラス基板表面の核形成点制御による大粒径多結晶薄膜形成法の開発
    2004 -
  • 原子論的生産技術の創出拠点
    2004 -
Education (1):
  • - 2001 Osaka University
Professional career (1):
  • (BLANK) (Osaka University)
Work history (1):
  • 2023/10 - 現在 Osaka University Graduate School of Engineering, Division of Engineering Physics Associate Professor
Committee career (1):
  • 2011/04 - 現在 精密工学会 超精密加工専門委員会 幹事
Awards (8):
  • 2023/01 - 公益社団法人 精密工学会 2022年度精密工学会秋季大会学術講演会 ベストプレゼンテーション賞 大気圧プラズマを用いた2段階プロセスによる透明基材用反射防止コーティング
  • 2022/05 - 公益社団法人 精密工学会 2022年度精密工学会春季大会学術講演会 ベストプレゼンテーション賞 低温高密度プラズマ処理による銀ナノファズ構造の形成
  • 2021/05 - 公益社団法人 精密工学会 2021年度精密工学会春季大会学術講演会 ベストプレゼンテーション賞 固体ソース支援プラズマ化学気相成長法による高撥水フルオロカーボン膜の形成
  • 2017/10 - 公益財団法人 精密工学会 2017年度 精密工学会 秋季大会学術講演会 ベストオーガナイザー賞
  • 2015/11 - Taiwan Association for Coatings and Thin Films Technology Poster award of excellence
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Association Membership(s) (5):
精密工学会 ,  応用物理学会 ,  The Japan Society of Applied Physics ,  Japan Society for Precision Engineering ,  THE INSTITUTE OF ELECTRICAL ENGINEERS OF JAPAN
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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