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J-GLOBAL ID：200901089765976137 Update date: Dec. 24, 2024

Ohmi Hiromasa

オオミヒロマサ | Ohmi Hiromasa

Affiliation and department：
Homepage URL (1)： http://www-ms.prec.eng.osaka-u.ac.jp/

Research field (5)： Electric/electronic material engineering , Manufacturing and production engineering , Optical engineering and photonics , Thin-film surfaces and interfaces , Basic plasma science

Research keywords (10)：表面・界面物性 , 薄膜工学 , 電気材料工学 , 電子 , 量子光工学(レーザ) , 応用光学 , Surface and Interface , electronics material , Quantum Optics(Laser) , Applied Optics

Research theme for competitive and other funds (48)：

2024 - 2027 Development of a smart manufacturing process for ultrathin crystalline Si solar cell using hydrogen plasma
2024 - 2025 炭素繊維強化プラスチックの高品位ソフト加工法の開発
2024 - 2025 水素を活用したLiプレドープナノ多孔質SiSn合金粒子の創成
2024 - 2025 非平衡活性水素ガスを利用した超薄型単結晶シリコン基板の創成
- 2024 異種材接合に向けた高密度・非平衡プラズマによる金属表面処理技術の開発

- 2023 省資源・省エネ型単結晶ダイヤモンド合成プロセスの開発

2021 - 2022 Creation of infrared-antireflection Ge surface using high-density hydrogen plasma

2016 - 2019 Development of chemical-free and sophisticated manufacturing process for semiconductor substrate through hydrogen cycle

2015 - 2017 Development of soft process of dimensional transformation for Si by non-equilibrium high-pressure hydrogen plasma

2013 - 2016 Direct formation of the high-quality nanowire Si from metallurgical Si source based on the plasma and nanotechnology science

2013 - 2015 Synthesis of industrial diamond film from woody biomass feedstock at low temperature and normal pressure

2015 - プラズマ・ナノ科学による金属級シリコン原料から高品質ナノワイヤシリコンの直接創成

2010 - 2014 Atmospheric-pressure plasma processes for high-rate film formation applicable for thin crystalline Si solar cells

2014 - プラズマ・ナノ科学による金属級シリコン原料から高品質ナノワイヤシリコンの直接創成

2013 - プラズマ・ナノ科学による金属級シリコン原料から高品質ナノワイヤシリコンの直接創成

2009 - 2011 Development of eco-friendly surface treatment technique for photovoltaic crystalline Si substrate by using fluorine resigns

2009 - 2010 大気圧プラズマを用いた機能性界面創生によるSi表面パッシベーション技術の開発

2010 - 誘電体バリア放電によるプラズマ処理技術の検討

2010 - 大気圧プラズマを用いた機能性界面創生によるSi表面パッシベーション技術の開発

2010 - 大気圧プラズマ科学に基づく新たなSi材料創成プロセスの開発

2007 - 2009 Development and application of totally low-temperature semiconductor process using atmospheric-pressure plasma

2009 - 大気圧プラズマ科学に基づく新たなSi材料創成プロセスの開発

2009 - 大気圧プラズマを用いた全低温半導体プロセスの開発と応用

2008 - 大気圧プラズマを用いた全低温半導体プロセスの開発と応用

2008 - 低温形成半導体薄膜を用いたセンサープロセス・デバイスの開発

2008 - 大気圧プラズマによるアクリル樹脂表面機能化の研究

2006 - 2007 インライン対応シリコン低温選択エビ技術の開発

2006 - 2007 大気圧水素プラズマと固体原料を用いたIV族混晶半導体薄膜の高能率形成法の開発

2007 - 大気圧水素プラズマと固体原料を用いたIV族混晶半導体薄膜の高能率形成法の開発

2007 - 低温形成半導体薄膜を用いたセンサープロセス・デバイスの開発

2007 - 大気圧プラズマによる半導体用金属窒化物の成膜

2007 - 大気圧プラズマによるアクリル樹脂表面機能化の研究

2007 - 大気圧プラズマCVDによる窒化物薄膜の低温形成法の研究

2007 - インライン対応シリコン低温選択エピ技術の開発

2004 - 2006 Fabrication of Large-Grained Polycrystalline Si Thin Films by Controlling Nucleation Sites on Glass Substrates

2006 - インライン対応シリコン低温選択エピ技術の開発

2006 - ガラス基板表面の核形成点制御による大粒径多結晶薄膜形成法の開発

2006 - 大気圧水素プラズマと固体原料を用いたIV族混晶半導体薄膜の高能率形成法の開発

2004 - 2005 大気圧水素プラズマのみによるシリコン薄膜の形成

2005 - ガラス基板表面の核形成点制御による大粒径多結晶薄膜形成法の開発

2005 - 大気圧水素プラズマのみによるシリコン薄膜の形成

2002 - 2004 窒化物半導体による紫外光(UV)レーザへの発展

2004 - 原子論的生産技術の創出拠点

2003 - 原子論的生産技術の創出拠点

2002 - 完全表面の創成

大気圧プラズマを利用した高効率成膜法の開発

大気圧プラズマCVD法によるTFT用多結晶Siの作製に関する研究

Deposition of Poly-Si for TFTs by using Atomospheric pressure PCVD.

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Papers (189)：

Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi. High-rate etching of silicon oxide and nitride using narrow-gap high-pressure (3.3 kPa) hydrogen plasma. Journal of Physics D: Applied Physics. 2024. 57. 27. 275204-275204
Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi. Role of O₂ and N₂ addition on low-reflectance Si surface formation using moderate-pressure (3.3 kPa) hydrogen plasma. Physica Scripta. 2023. 98. 11. 115609-115609
Toshimitsu Nomura, Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi. Shallow defect layer formation as Cu gettering layer of ultra-thin Si chips using moderate-pressure (3.3 kPa) hydrogen plasma. Journal of Applied Physics. 2023. 133. 16
Hiroaki Kakiuchi, Hiromasa Ohmi, Seiya Takeda, Kiyoshi Yasutake. Improvement of deposition characteristics of silicon oxide layers using argon-based atmospheric-pressure very high-frequency plasma. Journal of Applied Physics. 2022. 132. 10. 103302-103302
Toshimitsu Nomura, Kenta Kimoto, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake, Hiromasa Ohmi. Si nanocone structure fabricated by a relatively high-pressure hydrogen plasma in the range of 3.3-27 kPa. Journal of Vacuum Science & Technology B. 2022. 40. 3. 032801-032801

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MISC (71)：

High-Rate and Low-Temperature Si Film Growth Technology and its Application for Thin Film Transistors. 2013. 19. 11. 23-29
High-rate deposition of silicon films by atmospheric-pressure plasma chemical vapor deposition and its application to Si thin film solar cells. 2012. 31. 6. 88-93
垣内弘章, 大参宏昌, 安武潔. 大気圧プラズマを用いた低温・高速成膜技術 (特集プラズマプロセスの応用技術). ケミカルエンジニヤリング. 2010. 55. 12. 889-895
大参宏昌, オオミヒロマサ. 大気圧プラズマ化学輸送法による太陽電池用シリコン膜の作製. 大阪大学低温センターだより. 2010. 152. 20-26
Hiromasa Ohmi, Kazuya Kishimoto, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake. PFC-Free Dry Etching Method for Si Using Narrow-Gap VHF Plasma at Subatmospheric Pressure. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY. 2010. 157. 2. D85-D89

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Patents (28)：

ガス生成方法およびエッチング装置
プラズマ生成装置
フルオロカーボン膜の成膜方法及び成膜装置
エッチング装置及びエッチング方法
金属膜形成装置及び金属膜形成方法

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Books (12)：

超精密加工と表面科学第2部2章3
大阪大学出版会 2014 ISBN:9784872594652
Monthly DISPLAY
2013
大気圧プラズマCVDによるSi高速成膜と太陽電池への応用 OPTRONICS, 2012, No. 6, 88-93. (共著)
株式会社オプトロニクス社 2012
大気圧プラズマCVDによるシリコン薄膜の形成「改訂版大気圧プラズマの生成制御と応用技術」 pp.197-219, 2012 (共著)
サイエンス&テクノロジー株式会社 2012 ISBN:9784864280396
大気圧プラズマの技術とプロセス開発
シーエムシー出版 2011 ISBN:9784781304076

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Works (5)：

グローバルCOE 高機能化原子制御製造プロセス教育研究拠点
2008 -
Center of Excellence for Atomically Controlled Fabrication Technology
2008 -
大気圧水素プラズマのみによるSi薄膜の形成
2004 -
ガラス基板表面の核形成点制御による大粒径多結晶薄膜形成法の開発
2004 -
原子論的生産技術の創出拠点
2004 -

Education (1)：

- 2001 Osaka University

Professional career (1)：

(BLANK) (Osaka University)

Work history (1)：

2023/10 - 現在 Osaka University Graduate School of Engineering, Division of Engineering Physics Associate Professor

Committee career (11)：

2011/04 - 現在精密工学会超精密加工専門委員会幹事
2008/04 - 現在電気学会論文委員会委員
2020/04 - 2024/03 公益社団法人精密工学会校閲委員幹事
2017/04 - 2017/10 精密工学会精密工学会秋季大会実行委員
2012/10 - 5th international symposium on atomically controlled fabrication technology, Steering committee

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Awards (8)：

2023/01 - 公益社団法人精密工学会 2022年度精密工学会秋季大会学術講演会ベストプレゼンテーション賞大気圧プラズマを用いた2段階プロセスによる透明基材用反射防止コーティング
2022/05 - 公益社団法人精密工学会 2022年度精密工学会春季大会学術講演会ベストプレゼンテーション賞低温高密度プラズマ処理による銀ナノファズ構造の形成
2021/05 - 公益社団法人精密工学会 2021年度精密工学会春季大会学術講演会ベストプレゼンテーション賞固体ソース支援プラズマ化学気相成長法による高撥水フルオロカーボン膜の形成
2017/10 - 公益財団法人精密工学会 2017年度精密工学会秋季大会学術講演会ベストオーガナイザー賞
2015/11 - Taiwan Association for Coatings and Thin Films Technology Poster award of excellence

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Association Membership(s) (5)：

精密工学会 , 応用物理学会 , The Japan Society of Applied Physics , Japan Society for Precision Engineering , THE INSTITUTE OF ELECTRICAL ENGINEERS OF JAPAN

※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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