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J-GLOBAL ID:200901039456426443   Update date: Feb. 07, 2025

Takeda Yoshikazu

タケダ ヨシカズ | Takeda Yoshikazu
Affiliation and department:
Job title: Fellow
Homepage URL  (1): http://www.astf-kha.jp/synchrotron/
Research field  (6): Electronic devices and equipment ,  Electric/electronic material engineering ,  Optical engineering and photonics ,  Thin-film surfaces and interfaces ,  Crystal engineering ,  Applied materials
Research keywords  (5): Synchrotron Radiation ,  Characterization ,  Crystal Growth ,  Compound Semiconductors ,  Semiconductor Engineering
Research theme for competitive and other funds  (6):
  • 1997 - 半導体偏極電子源
  • 1997 - Semiconductor spin-plarized photocathodes
  • 半導体ヘテロ界面の放射光による評価
  • 新しい半導体の成長
  • Characterization of Semiconductor Heterointerfaces by Synchrotron Radiation
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Papers (232):
  • Lei Yu, Weishi Wan, Takanori Koshikawa, Meng Li, Xiaodong Yang, Changxi Zheng, Masahiko Suzuki, Tsuneo Yasue, Xiuguang Jin, Yoshikazu Takeda, et al. Aberration corrected spin polarized low energy electron microscope. Ultramicroscopy. 2020. 216. 113017-113017
  • M. Tabuchi, K. Fujita, J. Tsuchiya, Y. Fujiwara, Y. Takeda. Thermal diffusion of Er atoms δ-doped in InP. Applied Surface Science. 2020. 130-132. 393-397
  • Y. Nonogaki, T. Iguchi, S. Fuchi, Y. Fujiwara, Y. Takeda. Nanometer-scale InAs islands grown on GaP (001) by organometallic vapor phase epitaxy. Applied Surface Science. 2020. 130-132. 724-728
  • Xiuguang Jin, Masao Suzuki, Tsuneo Yasue, Takanori Koshikawa, Yoshikazu Takeda. Recovery of quantum efficiency in spin-polarized photocathodes by atomic hydrogen cleaning. ULTRAMICROSCOPY. 2017. 183. 89-93
  • Guangxu Ju, Masao Tabuchi, Yoshikazu Takeda, Hiroshi Amano. Role of threading dislocations in strain relaxation during GaInN growth monitored by real-time X-ray reflectivity. APPLIED PHYSICS LETTERS. 2017. 110. 26
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MISC (178):
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Patents (8):
  • 電子移動可能体形成材料、電子移動可能体形成方法、及び電子移動可能体
  • 発光素子用ErドープGaAs結晶及びその製造方法
  • 発光素子用希土類元素添加半導体積層構造、それを用いた発光ダイオード、半導体レーザダイオード及び半導体光増幅器並びにそれらの製造方法
  • 半導体素子及びその製造方法
  • 不均一な量子ドットを有する半導体積層構造、それを用いた発光ダイオード、半導体レーザダイオード及び半導体光増幅器並びにそれらの製造方法
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Books (12):
  • エピタキシーの基礎(薄膜ハンドブック第2版)
    オーム社 2008
  • 付録C CTR散乱強度に関する補足(X線反射率法入門)
    2007
  • X線反射率法の拡張(2)ブラッグ点回りのX線反射率法(X線反射率法入門)
    2007
  • 電気的評価の基礎と実践(結晶工学の基礎-結晶工学スクールテキスト第8版)
    2006
  • 電気的評価の基礎と実践(結晶工学の基礎-結晶工学スクールテキスト第7版)
    2004
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Works (10):
  • スピン偏極パルスTEMの開発とナノスピン解析への応用
    2009 - 2013
  • 実用三次元スピン回転偏極電子ビーム装置
    2010 - 2012
  • 生体透過率の極めて高い小型広帯域光源の開発
    2009 - 2011
  • 局所構造制御による鉄砒素超伝道薄膜の物性制御基盤技術の構築
    2008 - 2011
  • 真のヘテロ界面構造とその形成
    2006 - 2010
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Education (4):
  • - 1977 Kyoto University
  • - 1977 Kyoto University Graduate School, Division of Engineering Department of Electronics
  • - 1972 Kyoto University Faculty of Engineering
  • - 1972 Kyoto University Faculty of Engineering Department of Electronics
Professional career (1):
  • Doctor of Engineering (Kyoto University)
Work history (17):
  • 2021/04 - 現在 Aichi Science and Technology Foundation Aichi Synchrotron Radiation Center Fellow, Director in Honor
  • 2012/04 - 2021/03 Aichi Science & Technology Foundation Aichi Synchrotron Center Director
  • 2012/06 - NAGOYA INDUSTRIAL SCIENCE RESERCH INSTITUTE
  • 2007/04 - 2012/03 Nagoya University Synchrotron Raditaion Research Center Director
  • 2007 - 2010 Nagoya University Synchrotron Radiation Research Center, Director
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Committee career (11):
  • 2010 - 2012 日本放射光学会 評議員
  • 2010 - 2012 日本結晶成長学会 会長
  • 2006 - 2010 日本結晶成長学会 編集委員長
  • 2006 - 2010 Japanese Association of Crystal Growth Editor
  • 2004 - 2009 応用物理学会 評議員
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Awards (11):
  • 2024 - 日本結晶成長学会 功績賞
  • 2024 - 日本結晶成長学会 業績賞及び赤勇賞
  • 2016 - 未踏科学技術協会 超伝導科学技術賞
  • 2015 - 日本真空学会 真空学会誌賞
  • 2015 - 情報処理学会 論文賞
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Association Membership(s) (9):
日本金属学会 ,  米国物理学会 ,  IEEE ,  電子情報通信学会 ,  日本放射光学会 ,  日本結晶成長学会 ,  応用物理学会 ,  Japanese Association of Crystal Growth ,  The Japan Society of Applied Physics
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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