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J-GLOBAL ID：200902065235271350   Reference number：81A0076901

Facing targets type of sputtering method for deposition of magnetic metal films at low temperature and high rate.

磁性金属薄膜を低温高速で蒸着するための対向ターゲットスパッタリング方式

Author (3)： NAOE M (Tokyo Inst. Technology) ,  YAMANAKA S (Tokyo Inst. Technology) ,  HOSHI Y (Tokyo Inst. Technology)
Material： IEEE Transactions on Magnetics  (IEEE Trans Magn)
Volume： 16  Issue： 5  Page： 646-648  Publication year： Sep. 1980 
JST Material Number： A0339B  ISSN： 0018-9464  CODEN： IEMGAQ  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： cathodic sputtering ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (6)： 磁性 ,  金属薄膜 ,  低温 ,  蒸着 ,  ターゲット ,  スパッタリング