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J-GLOBAL ID：200902116180875891   Reference number：02A0435853

Magnetron Sputter Deposition of Transition Metal Carbide Thin Films and Their Evaluation as a Cold Cathode.

マグネトロンスパッタ法による遷移金属炭化物薄膜の形成と冷陰極材料としての評価

Author (4)： GOTO YASUHITO (京大 大学院工学研究科) ,  KIWA NOBUMASA (京大 大学院工学研究科) ,  TSUJI HIROSHI (京大 大学院工学研究科) ,  ISHIKAWA JUNZO (京大 大学院工学研究科)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 45  Issue： 3  Page： 212-214  Publication year： Mar. 20, 2002 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： magnetron sputtering ,...
Semi thesaurus term： negative electrode

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Electron emission in general  (BM09010H)

Reference (8)：

• TOTH, L. E. Transition Metal Carbides and Nitrides. 1971
• ヴェエスフォメンコ. 電子放出特性便覧. 1973
• MACKIE, W. A. J. Vac. Sci. Technol. 1998, 16, 2057
• MACKIE, W. A. J. Vac. Sci. Technol. 1998, 16, 1215
• SURPLICE, N. A. J. Phys. 1970, 3, 477

Terms in the title (6)： マグネトロンスパッタ法 ,  遷移 ,  金属炭化物 ,  薄膜 ,  冷陰極 ,  評価