Art

J-GLOBAL ID：200902119090966609   Reference number：02A0616915

Fluoropolymers for 157/193 nm Lithography: Chemistry, New Platform, Formulation Strategy, and Lithographic Evaluation.

157/193nmリソグラフィー用のふっ素化重合体 化学,新しいプラットホーム,処方戦略及びリソグラフィー評価

Author (9)： ITO H (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  TRUONG H D (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  OKAZAKI M (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  MILLER D C (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  FENDER N (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  BROCK P J (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  WALLRAFF G M (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  LARSON C E (IBM Almaden Res. Center, CA, USA) ,  ALLEN R D (IBM Almaden Res. Center, CA, USA)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 15  Issue： 4  Page： 591-602  Publication year： 2002 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： fluorine-containing polymer ,...
Semi thesaurus term： Penultimate effect

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0616915&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0202A") }}

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Copolymerization  (CG04030D)

Substance index (7)： 2-Trifluoromethylacrylic acid=tert-butyl ,  α,α-Bis(trifluoromethyl)norborna-5-ene-2-ethanol ,  Ethyl vinyl ether ,  tert-Butyl vinyl ether ,  3,4-Dihydro-2H-pyran ,  2,3-Dihydrofuran ,  Carbonic acid vinylene

Reference (19)：

• 1). R. R. Kunz, T. M. Bloomstein, D. E. Hardy, R. B. Goodman, D. K. Downs, and J. E. Curtin, Proc. SPIE, 3678 (1999) 13.
• 2). a) H. Ito, G. M. Wallraff, P. Brock, N. Fender, H. Truong, G. Breyta, D. C. Miller, M. H. Sherwood, and R. D. Allen, Proc. SPIE, 4345 (2001) 273; b) H. Ito, G. M. Wallraff, N. Fender, P. J. Brock, C. E. Larson, H. D. Truong, G. Breyta, D. C. Miller, M. H. Sherwood, and R. D. Allen, J. Photopolym. Sci. Technol.,14 (2001) 583; c) H. Ito, G. M. Wallraff, N. Fender, P. J. Brock, W. D. Hinsberg, A. Mahorowala, C. E. Larson, H. D. Truong, G. Breyta, and R. D. Allen, J. Vac. Sci. Technol., B19(6) (2001) 2678; d) H. Ito, G. Wallraff, N. Fender, P. Brock, H. Truong, C. Larson, G. Breyta, and B. Allen, Arch Interface '01CD 2001.
• 3). a) T. Chiba, R. J. Hung, S. Yamada, B. Trinque, M. Yamachika, C. Brodsky, K. Paterson, A. V. Heyden, A. Jamison, S.-H. Lin, M. Somervelle, J. Byers, W. Conley, and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 13 (2000) 657; b) R. J. Hung, H. V. Tran, B. C. Trinque, T. Chiba, S. Yamada, D. P. Sanders, E. F. Connor, R. H. Grubbs, J. Klopp, J. M. J. Frechet, B. H. Thomas, G. J. Shafer, D. D. DesMarteau, W. Conley, and C. G. Willson, Proc. SPIE, 4345 (2001) 385; c) H. V. Tran, R. J. Hung, T. Chiba, S. Yamada, T. Mrozek, Y.-T. Hsieh, C. R. Chambers, B. P. Osborn, B. C. Trinque, M. J. Pinnow, D. P. Sanders, E. C. Connor, R. H. Grubbs, W. Conley, S. A. MacDonald, and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol.,14 (2001) 669.
• 4). N. Fender, P. J. Brock, W. Chau, S. Bangsaruntip, A. Mahorowala, G. M. Wallraff, W. D. Hinsberg, C. E. Larson, H. Ito, G. Breyta, K. Burnham, H. Truong, P. Lawson, and R. D. Allen, Proc. SPIE, 4345 (2001) 417.
• 5). a) P. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin, W. A. Mowers, T. H. Fedynyshyn, V. Liberman, and J. E. Curtin, Proc. SPIE, 4345 (2001) 285; b) T. H. Fedynyshyn, R. R. Kunz, R. F. Sinta, M. Sworin, W. A. Mowers, R. B. Goodman, and S. P. Doran, Proc. SPIE, 4345 (2001) 296.

Terms in the title (7)： リソグラフィー ,  ふっ素化重合体 ,  化学 ,  プラットホーム ,  処方 ,  戦略 ,  評価