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J-GLOBAL ID：200902123498410037   Reference number：98A0598986

Application of high-purity ozone beam to silicon-oxide thin-film formation and surface cleaning.

高純度オゾンビームを利用したシリコン酸化膜形成と表面クリーニング

Author (4)： ICHIMURA SHINGO (電総研) ,  KUROKAWA AKIRA (電総研) ,  NAKAMURA KEN (電総研) ,  NONAKA HIDEHIKO (電総研)
Material： 応用物理  (JSAP International)
Volume： 67  Issue： 6  Page： 673-677  Publication year： Jun. 1998 
JST Material Number： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *ozone ,...
Semi thesaurus term： SHG(harmonic)

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Surface structure of semiconductors  (BK15030A)

Reference (22)：

• CHAO, S. C. J.Electrochem.Soc. 1989, 136, 2751
• KAZOR, A. Appl.phys.Lett. 1994, 65, 412
• THOMPSON, W. H. J.Appl.Phys. 1996, 80, 5415
• AWAJI, N. Jpn.J.Appl.Phys. 1996, 35, L67
• AFANASEV, V. V. Appl.Phys.Lett. 1996, 68, 2141

Terms in the title (5)： 高純度 ,  オゾン ,  ビーム ,  シリコン酸化膜 ,  クリーニング