Art

J-GLOBAL ID：200902124381768794   Reference number：97A0501815

Physical Properties of Tantalum Pentoxide Thin Film Fbricated by RF-Magnetron Sputtering Method.

マグネトロンスパッタ法で形成したTa₂O₅光学薄膜の力学的性質

Author (9)： KAMIMURA TOMOSUMI (大阪工大 工) ,  KANO HAJIME (大阪工大 工) ,  OCHI KAN'YOSHI (大阪工大 工) ,  YOSHIDA KUNIO (大阪工大 工) ,  YOSHIDA HIDETSUGU (大阪大 レーザー核融合研セ) ,  FUJITA HISANORI (大阪大 レーザー核融合研セ) ,  TAMURA SHIGEHARU (大阪工技研) ,  TANI FUMIO (新明和工業) ,  SUNAGAWA MICHIO (新明和工業)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 40  Issue： 3  Page： 126-129  Publication year： Mar. 1997 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： sputtered deposition ,...
Semi thesaurus term： レーザ耐力

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Laser irradiation effects and damages  (BK16040S)

Reference (5)：

• NOSE, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 1987, 26, 1256
• BLOEMBERGEN, N. Appl. Opt. 1973, 12, 661
• LOWDERMILK, H. W. IEEEJ. Quantum Electron. 1981, QE-17, 1888
• YOSHIDA, K. SPIE. 1995, 2714, 340
• THORNTON, J. A. J. Vac. Sci. Technol. 1981, 18, 203

Terms in the title (4)： マグネトロンスパッタ法 ,  Ta2O5 ,  光学薄膜 ,  力学的性質