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J-GLOBAL ID：200902136989218469   Reference number：02A0435852

Characterization of MN/CN_x (M: Ti,Zr) Multilayer Thin Films Prepared by Ion Beam Sputtering Method.

イオンビームスパッタリング法による窒化炭素系積層多層薄膜の合成と評価

Author (3)： KIMURA TOMOYUKI (龍谷大 大学院理工学研究科) ,  AOI YOSHIFUMI (龍谷大 理工) ,  KAMIJO EIJI (龍谷大 理工)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 45  Issue： 3  Page： 208-211  Publication year： Mar. 20, 2002 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *sputtered deposition ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Mechanical properties of solids in general  (BL01021C)

Reference (11)：

• YASHAR, P. J. Vac. Sci. Technol. A. 1998, 16
• 玉岡克康. 真空. 1999, 42, 265
• 中山明. 真空. 1994, 30, 55
• PANJAN, P. Surf. Coat. Technol. 1998, 98, 1497
• TAYLOR, C. The Industrial Physicist. 1998, March 25

Terms in the title (4)： イオンビームスパッタリング法 ,  窒化炭素 ,  多層薄膜 ,  評価