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J-GLOBAL ID：200902145779286797   Reference number：01A0758406

Fluoropolymer Resist Materials for 157nm Microlithography.

157nmマイクロリソグラフィーのためのふっ素化重合体レジスト材料

Author (9)： TRAN H V (Univ. Texas, TX) ,  HUNG R J (Univ. Texas, TX) ,  CHIBA T (Univ. Texas, TX) ,  YAMADA S (Univ. Texas, TX) ,  SANDERS D P (California Inst. Technol., CA) ,  CONNOR E F (California Inst. Technol., CA) ,  GRUBBS R H (California Inst. Technol., CA) ,  CONLEY W (SEMATECH, TX) ,  WILLSON C G (Univ. Texas, TX)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 14  Issue： 4  Page： 669-674  Publication year： 2001 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *fluorine-containing polymer ,...
Semi thesaurus term： ポジティブ型レジスト

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (5)： α,α-Bis(trifluoromethyl)norborna-5-ene-2-ethanol ,  Norborn-5-ene-2-carboxylic acid tert-butyl ester ,  2-(Trifluoromethyl)norborna-5-ene-2-carboxylic acid tert-butyl ester ,  3-(Trifluoromethyl)-4,4-difluorotricyclo[4.2.1.0^2,5]nona-7-ene-3-carboxylic acid methyl ester ,  Bis(carbonic acid tert-butyl)cyclohexane-1,4-diylbis[bis(trifluoromethyl)methylene] ester

Reference (13)：

• 1). T. M. Bloomstein, M. W. Horn, M. Rothschild, R. R. Kunz, S. T. Palmacii, and R. B. Goodman, J. Vac. Sci. Technol. B, 13(6) (1997) 2112.
• 2). K. Patterson et al., Proc. SPIE, 3999 (2000) 365-374.
• 3). C. Brodsky et al., J. Vac. Sci. Technol. B, 18(6) (2000) 3396-3401.
• 4). T. Chiba et al., J. Photopolym. Sci. Technol., 13 (2000) 657-664.
• 5). R. Hung et al., Proc. SPIE, in press.

Terms in the title (3)： マイクロリソグラフィー ,  ふっ素化重合体 ,  レジスト材料