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J-GLOBAL ID：200902148820518704   Reference number：99A0772520

Effects of Fluorocarbon Films on CF Radical in CF₄/H₂ Plasma.

CF₄/H₂プラズマ中でCFラジカルにフルオロカーボン薄膜が及ぼす効果

Author (5)： ARAI T (Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN) ,  GOTO M (Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN) ,  HORIKOSHI K (Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN) ,  MASHINO S (Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN) ,  AIKYO S (Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 38  Issue： 7B  Page： 4377-4379  Publication year： Jul. 30, 1999 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma etching ,...
Semi thesaurus term： fluorocarbon

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JST classification (2)： Applications of plasma  (BJ02110K) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (1)： Tetrafluoromethane

Reference (11)：

• (1) B.N.Chapman: Glow Discharge Processes (John Wiley and Sons, New York, 1980).
• (2) G.S.Oehrlein and H.L.Williams: J. Appl. Phys. 62 (1987) 662.
• (3) J.P.Booth, G.Hancock, N.D.Perry and M.J.Toogood: J. Appl. Phys. 66 (1989) 5251.
• (4) M.Magane, N.Itabashi, N.Nishiwaki, T.Goto, C.Yamada and E.Hirota: Jpn. J. Appl. Phys. 29 (1990) L829.
• (5) Y.Hikosaka, H.Toyoda and H.Sugai: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) L353.

Terms in the title (6)： H2 ,  プラズマ ,  Cf ,  ラジカル ,  フルオロカーボン ,  薄膜