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J-GLOBAL ID：200902169465028862   Reference number：00A1054748

Light Scattering by Small particles and Small Defects on the Silicon Wafer Surface. Calculations of Scattering Light Intensity and Optical Image through a Lens.

シリコンウエハ表面上の微粒子・微小欠陥による光散乱 散乱光強度およびレンズによる像形成の計算

Author (8)： KATAOKA TOSHIHIKO (大阪大 大学院 工学研究科) ,  INOUE HARUYUKI (大阪大 大学院 工学研究科) ,  ENDO KATSUYOSHI (大阪大 大学院 工学研究科) ,  OSHIKANE YASUSHI (大阪大 大学院 工学研究科) ,  MORI YUZO (大阪大 大学院 工学研究科) ,  NAKANO MOTOHIRO (大阪大 大学院 工学研究科) ,  WADA KATSUO (シリコンテクノロジー) ,  AN HIROSHI (大阪電通大 工)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 66  Issue： 11  Page： 1716-1722  Publication year： Nov. 05, 2000 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *wafer ,...
Semi thesaurus term： near field(optics)

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (8)：

• The National Technology Roadmap for Semiconductors 1997. 1997
• 井上晴行. レーザ光散乱法によるSiウエハ付着微粒子計測装置の開発. 精密工学会誌. 1997, 63, 8, 1117
• 森勇蔵. 光散乱法によるナノメータオーダの粒径測定法の開発(第3報)-標準微粒子による粒径測定法の評価-. 精密工学会誌. 1993, 59, 7, 1121
• BOHREN, C. F. Absorption and Scattering of Light by Small Particles. 1983, 158
• KATAOKA, T. Direct Observation of Glide Dislocations in a KCI Crystal by the Light Scattering Method. Appl. Phys. Letts. 1990, 56, 14, 1317

Terms in the title (10)： シリコンウエハ ,  微粒子 ,  微小 ,  欠陥 ,  光散乱 ,  散乱 ,  光強度 ,  レンズ ,  像形成 ,  計算