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J-GLOBAL ID：200902184555256928   Reference number：94A0598464

Positive tone dry development process for 0.25 μm lithography.

0.25μmリソグラフィー用のポジティブ型レジストの乾式現像法

Author (4)： BAIK K-H (Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL) ,  GOETHALS A M (Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL) ,  RONSE K (Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL) ,  VAN DEN HOVE L (Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 7  Issue： 3  Page： 517-532  Publication year： 1994 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： novolak ,...

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JST classification (2)： Other products,semiproducts and uses  (YH06080T) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (18)：

• 1). K. Yamanaka, H. Iwasaki, H. Nozue, and K. Kasama, Proc. SPIE 1927, (1993) 310.
• 2). M. D. Levenson, N. S. Viswanathan, and R.A. Simpson, IEE Trans. ED-29, (1982) 1828.
• 3). M. Noguchi, M. Muraki, Y. Iwasaki, and A. Suzuki, Proc. SPIE 1674, (1992) 392.
• 4). Ki-Ho Baik, L. Van den hove, A.M. Goethals, M.Op de Beeck, and B. Roland, J. Vac. Sci. Technol. B 8(6), (1990) 1481.
• 5). Ki-Ho Baik, L. Van den hove, and B. Roland, J. Vac. Sci. Technol. B 9(6), (1991) 3399.

Terms in the title (3)： リソグラフィー ,  ポジティブ型レジスト ,  現像