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J-GLOBAL ID：200902185576160625   Reference number：02A0151128

Structure and Composition of ZnO Films Prepared by Radio-Frequency Magnetron Sputtering.

マグネトロンスパッタ法により作製したZnO膜の構造と組成

Author (8)： SUGAWARA TOMOAKI (北海道工技セ) ,  SHIMONO ISAO (北海道工技セ) ,  FUKUDA HISASHI (室蘭工大) ,  TSUJINO JIRO (北海道電力 総研) ,  HONMA NORIO (北海道電力 総研) ,  NISHINO MOTOKAZU (北海道職業能力開発大) ,  YOSHINO MASAKI (北海道職業能力開発大) ,  NOMURA SHIGERU (室蘭工大)
Material： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
Volume： 122-A  Issue： 1  Page： 100-106  Publication year： Jan. 01, 2002 
JST Material Number： S0808A  ISSN： 0385-4205  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *zinc oxide ,...

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JST classification (1)： Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Reference (16)：

• BACHARI, E. M. Structural and Optical Properties of Sputtered ZnO Films. Thin Solid Films. 1999, 348, 1/2, 165-172
• LEE, Y. E. Microstructural Evolution and Preferred Orientation Change of Radio-Frequency-Magnetron Sputtered ZnO Thin Films. J. Vac. Sci. Technol. 1996, 14, 3, 1943-1948
• AITA, C. R. The Effect of O_2 on Reactively Sputtered Zinc Oxide. J. Appl. Phys. 1980, 51, 10, 5533-5536
• SUBRAMANYAM, T. K. Effect of Substrate Temperature on the Physical Properties of DC Reactive Magnetron Sputtered ZnO Films. Optical Materials. 1999, 13, 2, 239-247
• KIM, K. K. The Grain Size Effects on the Photoluminescence of ZnO/α -Al_2O_3 Grown by Radio-Frequency Magnetron Sputterring. J. Appl. Phys. 2000, 87, 7, 3573-3575

Terms in the title (4)： マグネトロンスパッタ法 ,  作製 ,  ZnO ,  組成