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J-GLOBAL ID：200902189287921460   Reference number：01A0772376

A New Sample Structure for Position-Controlled Giant-Grain Growth of Silicon using Phase-Modulated Excimer-Laser Annealing.

位相変調エキシマレーザアニーリングを利用したシリコンの位置制御巨大粒成長のための新しい試料構造

Author (3)： YOSHIMOTO S (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  OH C-H (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  MATSUMURA M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 40  Issue： 7  Page： 4466-4469  Publication year： Jul. 15, 2001 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： phase modulation ,...
Semi thesaurus term： スピン-オン-ガラス

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JST classification (3)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Crystal growth of semiconductors  (BK13040X) ,  Laser irradiation effects and damages  (BK16040S)

Reference (14)：

• 1) R. Ishihara and M. Matsumura: Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) 6167.
• 2) M. A. Crowder, P. G. Carey, P. M. Smith, R. S. Sposili, H. S. Cho and J. S. Im: IEEE Electron Device Lett. 19 (1998) 306.
• 3) T. Smeshima, M. Hara, N. Sano and S. Usui: Jpn. J. Appl. Phys. 29 (1990) L1363.
• 4) D. H. Choi, K. Shimizu, O. Sugiura and M. Matsumura: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 4545.
• 5) J. S. Im, R. S. Sposili and M. A. Crowder: Appl. Phys. Lett. 70 (1997) 3434.

Terms in the title (5)： 位相変調 ,  シリコン ,  位置制御 ,  粒成長 ,  試料