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J-GLOBAL ID：200902193678204107   Reference number：00A0692978

A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification: A New Simpler Alternative for Multilayer Resist System.

化学増幅を用いた表面シリル化単一層レジスト 多層レジスト系用のより単純な新しい選択肢

Author (7)： SUGITA K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  IKAGAWA M (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  MING L C (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  YAMASHITA M (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  HARADA K (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  KUSHIDA M (Chiba Univ., Chiba, JPN) ,  SAITO K (Chiba Univ., Chiba, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 13  Issue： 4  Page： 535-538  Publication year： 2000 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： monolayer ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Reaction of polymers with low molecular weight compounds  (CG03020L)

Substance index (2)： Hexamethyldisilazane ,  Hexamethylcyclotrisiloxane

Reference (4)：

• 1) K. Sugita, M. Ikagawa, K. Harada, M. Kushida and K. Saito, Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 669.
• 2) E. Reichmanis, F. M. Houlihan, O. Nalamasu and T. X. Neeman, "Polymers for Microelectronics" (ACS Symp. Ser. 537, eds. L.F.Thompson, C.G.Willson and S.Tagawa), Am. Chem. Soc., Washington, D.C. (1994) p.2.
• 3) K. Sugita, N. Ueno, M. Kushida, K. Mizuno and H. Mitsui, J. Electrochem. Soc., 139 (1992) 802.
• 4) T. Matsuo and M. Endo: J. Photopolym. Sci. Technol., 9 (1996) 523.

Terms in the title (7)： 化学 ,  増幅 ,  シリル化 ,  単一層 ,  レジスト ,  多層レジスト ,  選択肢