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J-GLOBAL ID：200902199440557239   Reference number：97A0501309

Chemical Vapor Deposition of Hydrogen-Free Silicon-Dioxide Films.

水素を含まない二酸化けい素膜の化学蒸着

Author (3)： UCHIDA Y (Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN) ,  TAKEI S (Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN) ,  MATSUMURA M (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 36  Issue： 3B  Page： 1509-1512  Publication year： Mar. 1997 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silanes ,...
Semi thesaurus term： methylamine

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (7)：

• 1) G. S. Forbes and H. H. Anderson: J. Am. Chem. Soc. 62 (1940) 761.
• 2) W. Gasser, Y. Uchida and M. Matsumura: Thin Solid Films 250 (1994) 213.
• 3) O. Sugiura, H. Taniguchi, W. Gasser and M. Matsumura: Ext. Abstr. 1993 Int. Conf. Solid State Devices and Materials (Business Center for Academic Societies Japan, Tokyo, 1993) p. 513.
• 4) G. Lucovsky, M. J. Mnitini, J. K. Srivastava and E. A. Irene: J. Vac. Sci. Technol. B5 (1987) 530
• 5) P. J. Tobin, J. B. Price and L. M. Cambell: J. Electrochem. Soc. 127 (1980) 2222.

Terms in the title (3)： 水素 ,  酸化けい素膜 ,  化学蒸着