Art

J-GLOBAL ID：200902211607596274   Reference number：09A1035370

Characteristics of Undoped and Mn-Doped BiFeO₃ Films Formed on Pt and SrRuO₃/Pt Electrodes by Radio-Frequency Sputtering

高周波スパッタリングによりPtおよびSrRuO₃/Pt電極上に形成した非ドープ,および,MnをドープしたBiFeO₃膜の特性

Author (5)： KIM Jeong Hwan (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  FUNAKUBO Hiroshi (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  SUGIYAMA Yoshihiro (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  SUGIYAMA Yoshihiro (Fujitsu Lab. Ltd., Kanagawa, JPN) ,  ISHIWARA Hiroshi (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 48  Issue： 9,Issue 2  Page： 09KB02.1-09KB02.4  Publication year： Sep. 25, 2009 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： RF sputtering ,  electrode ,  *additive effect ,  *oxide ,  *iron compound ,  *bismuth compound ,  *characterization ,  leakage current ,  residual polarization ,  dielectric thin film ,  hysteresis loop
Semi thesaurus term： radio frequency sputtering ,  *characterization

JST classification (1)： Ferroelectrics,antiferroelectrics and ferroelasticity  (BM05030B)

Reference (20)：

• J. Wang, J. B. Neaton, H. Zheng, V. Nagarajan, S. B. Ogale, B. Liu, D. Viehland, V. Vaithyanathan, D. G. Schlom, U. V. Waghmare, N. A. Spaldin, K. M. Rabe, M. Wuttig, and R. Ramesh: Science 299(2003)1719.
• H. Yang, M. Jain, N. A. Suvorova, H. Zhou, H. M. Luo, D. M. Feldmann, P. C. Dowden, R. F. DePaula, S. R. Foltyn, and Q. X. Jia: Appl. Phys. Lett.91(2007)072911.
• K. Y. Yun, M. Noda, M. Okuyama, H. Saeki, H. Tabata, and K. Saito: J. Appl. Phys.96(2004)3399.
• C. D. Zheng, D. M. Zhang, J. Yu, B. Yang, Y. Y. Wu, L. H. Wang, Y. B. Wang, and W. L. Zhou: Integrated Ferroelectr.94(2007)23.
• R. Y. Zheng, X. S. Gao, Z. H. Zhou, and J. Wang: J. Appl. Phys.101(2007)054104.

Terms in the title (5)： 高周波スパッタリング ,  PT ,  ドープ ,  Mn ,  BiFeO3