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J-GLOBAL ID：200902225386984321   Reference number：05A0298258

Newly Developed High-Speed Rotating Disk Chemical Vapor Deposition Equipment for Poly-Si Films

ポリSi膜用の新しく開発した高速回転するディスク化学蒸着装置

Author (6)： TERAI F (Shibaura Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  KOBAYASHI H (Toshiba Corp., Kanagawa, JPN) ,  KATSUI S (Toshiba Corp., Ooita, JPN) ,  SATO Y (Toshiba Corp., Kanagawa, JPN) ,  NAGATOMO T (Shibaura Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  HOMMA T (Shibaura Inst. Technol., Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 44  Issue： 1A  Page： 125-130  Publication year： Jan. 15, 2005 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...
Semi thesaurus term： パーティクル【欠陥】

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Reference (12)：

• 1) F. Faggin and T. Klein: Solid-State Electron. 13 (1970) 1125.
• 2) D. F. Barbe: Proc. IEEE. 63 (1975) 38.
• 3) P. Joubert, B. Loisel, Y. Chouan and L. Haji: J. Electrochem. Soc. 134 (1987) 2541.
• 4) W. Breiland and G. Evans: J. Electrochem. Soc. 138 (1991) 1806.
• 5) M. E. Coltrin, R. J. Kee and G. H. Evans: J. Electrochem. Soc. 136 (1989) 819.

Terms in the title (5)： Si膜 ,  開発 ,  高速回転 ,  ディスク ,  化学蒸着