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J-GLOBAL ID：200902232796023732   Reference number：03A0329366

Energy Distribution of Ar⁺ Ions and Cu⁺ Ions by an rf-dc Coupled Magnetron Sputtering System

高周波-直流結合形マグネトロンスパッタ法におけるAr⁺及びCu⁺イオンのエネルギー分布

Author (6)： MIYAMOTO TSUGUHISA (広島工大 工) ,  ONISHI MANABU (広島工大 工) ,  KUMABUCHI ZENTA (広島工大 工) ,  YAMAGATA YU (広島工大 工) ,  KAWABATA KEISHI (広島工大 工) ,  KAJIOKA HIDESHI (広島県西部工技セ)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 46  Issue： 3  Page： 245-248  Publication year： Mar. 20, 2003 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *Copper ,...

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JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Reference (7)：

• OHMI, T. Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 364
• OHMI, T. Appl. Phys. Lett. 1988, 52, 236
• KAWABATA, K. Mat. Sci. Eng. 1993, A163, 163
• KUSANO, E. Surf. Coat. Technol. 1998, 108-109, 177
• DAVID, R. CRC Handbook Chemistry and Physics. 1993, 211

Terms in the title (5)： 高周波 ,  直流 ,  マグネトロンスパッタ法 ,  イオン ,  エネルギー分布