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J-GLOBAL ID：200902235320021536   Reference number：07A1058863

Sub-20 nm Scratch Nanolithography for Si Using Scanning Probe Microscopy

走査型プローブ顕微鏡を用いたSi用のサブ20nm擦過ナノリソグラフィー

Author (3)： OGINO Takumi (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  NISHIMURA Shinya (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  SHIRAKASHI Jun-ichi (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 46  Issue： 10A  Page： 6908-6910  Publication year： Oct. 15, 2007 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *scanning probe microscope ,...
Semi thesaurus term： 擦過 ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (14)：

• X. Jin and W. N. Unertl: Appl. Phys. Lett.61(1992)657.
• Y. Kim and C. M. Lieber: Science 257(1992)375.
• A. Avramescu, K. Uesugi, and I. Suemune: Jpn. J. Appl. Phys.36(1997)4057.
• F. Iwata, M. Yamaguchi, and A. Sasaki: Wear 254(2003)1050.
• R. Magno and B. R. Bennett: Appl. Phys. Lett.70(1997)1855.

Terms in the title (4)： 走査型プローブ顕微鏡 ,  Si ,  サブ ,  ナノリソグラフィー