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J-GLOBAL ID：200902240895636471   Reference number：07A0834210

Preparation of Thin-Film Capacitor with High Reliability by Anodization of Zr-Al Alloy Film

Zr-Al合金膜の陽極酸化による高信頼性を持った薄膜の作製

Author (7)： MIKUNI Naohiro (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  SHIBATA Tomoharu (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  SHINKAI Satoko (Kyusyu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  SASAKI Katsutaka (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  YANAGISAWA Hideto (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  YAMANE Misao (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  ABE Yoshio (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 46  Issue： 8A  Page： 5249-5253  Publication year： Aug. 15, 2007 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *reliability (property) ,...
Semi thesaurus term： *anodic oxidation ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Electrochemical reaction  (CB07050F)

Reference (18)：

• G. D. Wilk, R. M. Wallance, and J. M. Anthony: J. Appl. Phys.89(2001)5243.
• R. M. Fleming, D. V. Lang, C. D. W. Jones, M. L. Steigerwald, D. M. Murphy, G. B. Alers, Y. H. Wong, R. B. van Dover, J. R. Kwo, and A. M. Sergent: J. Appl. Phys.88(2000)850.
• J. Y. Zhang and I. W. Boyd: Appl. Surf. Sci.186(2002)40.
• T. Onozuka, H. Sasaki, N. Mikuni, S. Shinkai, K. Sasaki, M. Yamane, and Y. Abe: Jpn. J. Appl. Phys.44(2005)6731.
• K. Sasaki, M. Yamane, Y. Abe, and A. Noya: IEICE Trans. Electron. J78-C-II (1995)113 [in Japanese].

Terms in the title (6)： Zr ,  Al合金 ,  陽極酸化 ,  高信頼性 ,  薄膜 ,  作製