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J-GLOBAL ID：200902248990697411   Reference number：09A1035361

Growth of Epitaxial KNbO₃ Thick Films by Hydrothermal Method and Their Characterization

水熱法によるエピタキシャルKNbO₃厚膜の成長と特性評価

Author (9)： ISHIKAWA Mutsuo (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  YAZAWA Keisuke (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  FUJISAWA Takashi (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  YASUI Shintaro (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  YAMADA Tomoaki (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  HASEGAWA Tomohito (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  MORITA Takeshi (Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  KUROSAWA Minoru (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  FUNAKUBO Hiroshi (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 48  Issue： 9,Issue 2  Page： 09KA14.1-09KA14.5  Publication year： Sep. 25, 2009 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ferroelectrics ,  *potassium niobate ,  hydrothermal synthesis ,  epitaxy ,  *thick film ,  permittivity ,  dielectric loss ,  residual polarization ,  longitudinal mode ,  constant ,  film thickness ,  electrostriction ,  curve ,  piezoelectric constant ,  butterfly curve
Semi thesaurus term： relative permittivity

JST classification (2)： Ferroelectrics,antiferroelectrics and ferroelasticity  (BM05030B) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (21)：

• B. Sundarakannan, K. Kakimoto, and H. Ohsato: J. Appl. Phys.94(2003)5182.
• A. Kingon, M. Ameen, O. Auciello, K. Gifford, H. Al-Shareef, T. Graettinger, S. H. Rou, and P. Hren: Ferroelectrics 116(1991)35.
• M. J. Nystrom and B. W. Wessels: Appl. Phys. Lett.68(1996)761.
• A. Onoe, A. Yoshida, and K. Chikuma: Appl. Phys. Lett.78(2001)49.
• T. Saito, T. Wada, H. Adachi, and I. Kanno: Jpn. J. Appl. Phys.43(2004)6627.

Terms in the title (5)： 水熱法 ,  エピタキシャル ,  厚膜 ,  成長 ,  特性評価