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J-GLOBAL ID：200902254617190870   Reference number：04A0543856

Fabrication of Low Line Edge Roughness Mold for Photo-Nanoimprint

フォトナノインプリント用低ライン端粗さのモールド製作

Author (9)： KURASHIMA Y (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  HIROSHIMA H (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  KOMURO M (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  KIM S H (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  YAMAZAKI N (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  TANIGUCHI J (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  MIYAMOTO I (Tokyo Univ. Sci., Chiba, JPN) ,  NAMATSU H (NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN) ,  MATSUI S (Himeji Inst. of Technol., Hyogo, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 43  Issue： 6B  Page： 4045-4049  Publication year： Jun. 30, 2004 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (10)：

• 1) M. Nagase, H. Namatsu, K. Kurihara, K. Iwadate and K. Murase: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 3382.
• 2) T. Yamaguchi, K. Yamazaki, M. Nagase and H. Namatsu: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 3755.
• 3) A. Yamaguchi and O. Komuro: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 3763.
• 4) G. P. Patsis, V. Constantoudis, A. Tserepi and E. Gogolides: J. Vac. Sci. & Technol. B <B>21</B> (2003) 1008.
• 5) V. Constantoudis, G. P. Patsis, A. Tserepi and E. Gogolides: J. Vac. Sci. & Technol. B <B>21</B> (2003) 1019.

Terms in the title (5)： フォト ,  ナノインプリント ,  粗さ ,  モールド ,  製作