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J-GLOBAL ID：200902264738618253   Reference number：09A1257156

Improved Thermal Stability of Ag Thin Films by Organic Subnanolayer at Interface with Silicon Oxide Layer

シリコン酸化物層をもつ界面での有機サブナノ層によるAg薄膜の改善された熱安定性

Author (4)： KAWAMURA Midori (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN) ,  FUDEI Terumasa (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN) ,  ABE Yoshio (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN) ,  SASAKI Katsutaka (Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 48  Issue： 11  Page： 118002.1-118002.2  Publication year： Nov. 25, 2009 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： interface (surface) ,  thiol ,  *Silver ,  *thermal stability ,  vapor deposition ,  layer ,  silicon dioxide ,  *metallic thin film ,  *chemical modification
Semi thesaurus term： silicon ,  有機サブナノ層

JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Substance index (1)： 3-Mercaptopropyltrimethoxysilane

Reference (12)：

• M. Kawamura, Y. Inami, Y. Abe, and K. Sasaki: Jpn. J. Appl. Phys.47(2008)8917.
• M. Kawamura, D. Fukuda, Y. Inami, Y. Abe, and K. Sasaki: J. Vac. Sci. Technol. A 27(2009)975.
• A. Ulman: Chem. Rev.96(1996)1533.
• G. Ramanath, G. Cui, P. G. Ganesan, X. Guo, A. V. Ellis, M. Stukowski, K. Vijayamohanan, P. Doppelt, and M. Lane: Appl. Phys. Lett.83(2003)383.
• D. D. Gandhi, M. Lane, Y. Zhou, A. P. Singh, S. Nayak, U. Tisch, M. Eizenberg, and G. Ramanath: Nature 447(2007)299.

Terms in the title (8)： シリコン ,  酸化物層 ,  界面 ,  サブ ,  ナノ層 ,  Ag ,  薄膜 ,  熱安定性