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J-GLOBAL ID：200902267517574030   Reference number：03A0256395

Acceleration of Deposition Rates in a Chemical Vapor Deposition Process by Laser Irradiation.

レーザ照射による化学蒸着プロセスにおける堆積速度の加速

Author (3)： MIYAZAKI H (Tohoku Univ., Miyagi, JPN) ,  KIMURA T (Tohoku Univ., Miyagi, JPN) ,  GOTO T (Tohoku Univ., Miyagi, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 42  Issue： 3B  Page： L316-L318  Publication year： Mar. 15, 2003 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *laser CVD ,...

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JST classification (3)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Plasma diagnostics  (BJ02090L) ,  Ceramic coating to nonmetallic materials  (YC02040K)

Reference (12)：

• 1) F. N. Dultsev and A. P. Solowjev: Thin Solid Films 419 (2002) 27.
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• 4) A. Watanabe and Y. Imai: Thin Solid Films 348 (1999) 63.
• 5) N. Kaliwoh, J.-Y. Zhang and I. W. Boyd: Appl. Surf. Sci. 186 (2002) 246.

Terms in the title (4)： レーザ照射 ,  化学蒸着プロセス ,  堆積速度 ,  加速