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J-GLOBAL ID：200902276204326930   Reference number：08A0565307

Micropatterning of Ferroelectric Thin Films by Electron-Beam-Induced Reaction Process

電子ビーム誘起反応過程による強誘電薄膜のミクロパターニング

Author (3)： FUJII Tadashi (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN) ,  MATSUNAGA Hiroaki (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN) ,  ADACHI Masatoshi (Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 47  Issue： 1 Issue 2  Page： 647-648  Publication year： Jan. 25, 2008 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *pattern formation ,  ferroelectrics ,  *dielectric thin film ,  scanning electron microscope ,  electron beam lithography ,  atomic force microscope ,  mesa structure ,  *electron irradiation ,  lead compound ,  strontium compound ,  titanate ,  RTA
Semi thesaurus term： electron beam irradiation

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (7)：

• K. Mori and S. Okamura: Jpn. J. Appl. Phys.31(1992) L1143.
• S. Okamura, T. Mackawa, K. Suzuki, and T. Shiosaki: Jpn. J. Appl. Phys.41(2002)6754.
• Y. K. Kim, K. S. Lee, and S. Balk: J. Mater. Res.16(2001)2463.
• T. Karaki, J. Du, T. Fujii, and M. Adachi: Jpn. J. Appl. Phys.41(2002)6761.
• T. Fujii, J. Du, T. Karaki, and M. Adachi: J. Korean Phys. Soc.42(2003) S1178.

Terms in the title (5)： 電子ビーム ,  誘起 ,  反応過程 ,  強誘電薄膜 ,  パターニング