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J-GLOBAL ID：200902292772886201   Reference number：04A0072505

Effects of Driving Frequency on the Translational Temperature and Absolute Density of Si Atoms in Very High Frequency Capacitively Coupled SiF₄ Plasmas

高周波容量結合SiF₄プラズマ中のSi原子における並進温度と絶対密度に及ぼす駆動周波数の影響

Author (7)： OHTA T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  HORI M (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ISHIDA T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  GOTO T (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  ITO M (Wakayama Univ., Wakayama, JPN) ,  KAWAKAMI S (Tokyo Electron Tohoku Ltd., Kanagawa, JPN) ,  ISHII N (Tokyo Electron Ltd., Osaka, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 42  Issue： 12B  Page： L1532-L1534  Publication year： Dec. 15, 2003 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma ,...

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JST classification (1)： Plasma diagnostics  (BJ02090L)

Reference (8)：

• 1) T. Nakano and H. Sugai: J. Phys. D 26 (1993) 1909.
• 2) M. Surendra and D. B. Graves: Appl. Phys. Lett. 59 (1991) 2091.
• 3) T. Ohta, K. Hara, T. Ishida, M. Hori, T. Goto, M. Ito, S. Kawakami and N. Ishii: J. Appl. Phys. 94 (2003) 1428.
• 4) M. Nakamura, M. Hori, T. Goto, M. Ito and N. Ishii: Jpn. J. Appl. Phys. 40 (2001) 4730.
• 5) T. Tanaka, M. Hiramatsu, M. Nawata, A. Kono and T. Goto: J. Phys. D 27 (1994) 1660.

Terms in the title (6)： 高周波 ,  容量結合 ,  プラズマ ,  Si原子 ,  並進温度 ,  密度