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J-GLOBAL ID：200902298320346186   Reference number：05A0588838

Condensation Behavior of Nanoscale Bubbles on ArF Excimer Resist Surface Analyzed by Atomic Force Microscope

原子間力顕微鏡によって解析したArFエキシマレジスト表面上のナノ規模気泡の凝縮挙動

Author (1)： KAWAI Akira (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 18  Issue： 3  Page： 349-354  Publication year： 2005 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemically amplified resist ,...
Semi thesaurus term： 液浸リソグラフィー

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Other reactions of polymer  (CG03040H)

Reference (8)：

• 1. A. Kawai, Ext. Abstr. 51st Spring Meet. Japan Society of Applied Physics and Related Societies (2004) 29a-G-9 p777.
• 2. A. Kawai, A. Ishikawa. Ext. Abstr. 52nd Spring Meet. Japan Society of Applied Physics and Related Societies (2005) 31p-YW-16 p840.
• 3. H. Endo and A. Kawai, J. Photopolymer Sci. Technol., 17 (2004) 105.
• 4. A. Kawai, M. Hirano, T. Niiyama, J.PhotopolymerSci. Technol., 17 (2004) 461.
• 5. G. Binnig, C. F. Quate and Ch. Gerber, Phys. Rev. Lett. 56 (1986) 930.

Terms in the title (9)： 原子間力顕微鏡 ,  解析 ,  ARF ,  エキシマ ,  レジスト ,  規模 ,  気泡 ,  凝縮 ,  挙動