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J-GLOBAL ID：200903000399289519

ステージ装置および塗布処理装置

Inventor：
山▼崎▲ 剛

About 山▼崎▲ 剛

, 
境 昌孝

About 境 昌孝


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005046422
Publication number (International publication number)：2006237097
Application date： Feb. 23, 2005
Publication date： Sep. 07, 2006
Summary：
【課題】 塗布膜における転写痕の発生を抑制することができるステージ装置、およびこのステージ装置を備えた塗布処理装置を提供する。【解決手段】 レジスト塗布装置23aは、基板Gを浮上搬送するための小ステージ201〜203からなるステージ200と、ステージ200上で基板GをX方向に搬送する基板搬送機構13と、ステージ200上を浮上搬送される基板Gにレジスト液を塗布するレジストノズル14を備えている。レジスト液を塗布する位置には小ステージ202が配置されており、小ステージ202は、その表面から一定の高さに基板Gを略水平姿勢で浮上させるための複数のガス噴射口16aと複数の吸気口16bとを備え、ガス噴射口16aと吸気口16bをそれぞれ、基板搬送方向における所定距離内において基板搬送方向と平行に直線的に並ばないように設けた。【選択図】 図5
Claim (excerpt)：
基板をステージ上で一方向に浮上搬送するためのステージ装置であって、 前記ステージは、その表面から一定の高さに基板を略水平姿勢で浮上させるための複数のガス噴射口と、前記ガス噴射口から噴射されたガスを吸気するための複数の吸気口と、を備え、 前記複数のガス噴射口と前記複数の吸気口はそれぞれ、基板搬送方向における所定距離内において、基板搬送方向と平行に直線的に並ばないように設けられていることを特徴とするステージ装置。
IPC (3)：
H01L 21/683 ,  H01L 21/677 ,  H01L 21/027
FI (3)：
H01L21/68 P ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 564Z
F-Term (13)：
5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031GA62 ,  5F031GA63 ,  5F031HA57 ,  5F031HA80 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F046CD01 ,  5F046CD07 ,  5F046JA02 ,  5F046JA27
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 塗布膜形成装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-331663   Applicant：東京エレクトロン株式会社
Cited by examiner (6)
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